Оценка вероятности образования отрицательных ионов водорода в поверхностно – плазменном методе генерации с помощью уравнения Рассера

dc.contributor.authorРоєнко О. Ю.
dc.contributor.authorRoienko O. Yu.
dc.date.accessioned2018-11-27T11:43:19Z
dc.date.available2018-11-27T11:43:19Z
dc.date.issued2016
dc.description.abstractДля оценки вероятности образования отрицательных ионов водорода в источнике отрицательных ионов с комбинированным методом получения отрицательных ионов было произведено расчеты по уравнению Рассера для определения вероятности генерации отрицательных ионов водорода в поверхностно плазменном методе для различных значений работы выхода поверхности. Подсчеты, в хорошем соответствии с существующей теорией о принципе осуществления поверхностно – плазменного метода, показали экспоненциальную зависимость вероятности образования отрицательных ионов при уменьшении работы выхода поверхности. Была проведена оценка необходимых для использования в выражении Рассера параметров с учетом допустимо возможных в источнике отрицательных ионов, разрабатываемом в институте прикладной физики ИПФ НАН Украины г. Сумы. В зависимости от выбора конструктивных особенностей источника, проведены подсчеты вероятности образования отрицательных ионов для двух вариантов реализации поверхностно плазменного метода.uk_UA
dc.description.abstractTo assess the probability of the formation of negative hydrogen ions in the negative ion source with a combined method of producing negative ions produced calculations by Rasser equation for determining likelihood of generating negative hydrogen ions in the surface ionization method for different values of the work function of the surface. The calculations, in good agreement with the existing theory about the implementation of the principle of surface - plasma method, showed an exponential dependence of the probability of negative ions with a decrease in work output surface. Was assessed necessary for use in the expression Rasser parameters taking into account permissible possible to the source of negative ions being developed at the Institute of Applied Physics, Institute of Applied Physics of the NAS of Ukraine, Sumy. Depending on the choice of the design features of the source, carried out calculations of the probability of the formation of negative ions to the two embodiments of the surface of the plasma method.uk_UA
dc.identifier.citationРоенко, О. Ю. Оценка вероятности образования отрицательных ионов водорода в поверхностно – плазменном методе генерации с помощью уравнения Рассера [Текст] / О. Ю. Роенко // Фізико-математична освіта : науковий журнал / Міністерство освіти і науки України, Сумський державний педагогічний університет імені А. С. Макаренка, Фізико-математичний факультет ; [редкол.: В. Ю. Сторіжко, Ф. М. Лиман, І. О. Мороз та ін.; гол. ред. О. В. Семеніхіна]. – Суми : [СумДПУ імені А. С. Макаренка], 2016. – Вип. 2 (8). – С. 103–107.uk_UA
dc.identifier.urihttps://repository.sspu.edu.ua/handle/123456789/5930
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherСумДПУ імені А. С. Макаренкаuk_UA
dc.subjectисточник отрицательных ионовuk_UA
dc.subjectповерхностно – плазменный методuk_UA
dc.subjectотрицательные ионыuk_UA
dc.subjectвероятность образования отрицательных ионовuk_UA
dc.subjectработа выхода поверхностиuk_UA
dc.subjectуравнение Рассераuk_UA
dc.subjectnegative ion sourceuk_UA
dc.subjectsurface - plasma methoduk_UA
dc.subjectnegative ionsuk_UA
dc.subjectprobability of generation negative ionsuk_UA
dc.subjectwork function of surfaceuk_UA
dc.subjectRasser equationuk_UA
dc.titleОценка вероятности образования отрицательных ионов водорода в поверхностно – плазменном методе генерации с помощью уравнения Рассераuk_UA
dc.title.alternativeEstimating the Probability of the Formation of Negative Hydrogen Ions in the Surface – a Plasma Method Using Rasser Equationuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
dc.udc.udc537.563.7uk_UA
Файли
Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
Royenko.pdf
Розмір:
1 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
2.99 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: